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成果信息

（1）本發(fā)明采用紅外熱成像的原理來檢測(cè)薄膜厚度均勻性，整個(gè)檢測(cè)過程中，待測(cè)薄膜只需要和加熱裝置接觸，避免了薄膜在檢測(cè)過程中受到破壞。紅外攝像裝置拍攝待測(cè)薄膜表面各個(gè)時(shí)刻的溫度分布，對(duì)待測(cè)薄膜進(jìn)行在線實(shí)時(shí)檢測(cè)； （2）在某一特定時(shí)刻t，待測(cè)薄膜厚度變化百分之一，則相應(yīng)的厚度也變化百分之一。不同薄膜材料的特定時(shí)刻t不同，但是這一特定時(shí)刻t通常都是小于1秒，因此可以快速檢測(cè)薄膜厚度均勻性； （3）利用紅外熱成像檢測(cè)薄膜厚度均勻性，由于所有高于絕對(duì)零度的物體都會(huì)發(fā)出紅外輻射，所以本發(fā)明在檢測(cè)厚度均勻性時(shí)不用考慮待測(cè)薄膜的材料是否導(dǎo)電、透明等問題，適用于檢測(cè)任何材料的薄膜厚度均勻性。)

背景介紹

薄膜具有良好的韌性、防潮性和密封性，在生活和工業(yè)中的應(yīng)用十分廣泛。隨著社會(huì)的發(fā)展，生活和工業(yè)中對(duì)薄膜性能的要求越來越高，而薄膜的性能與其厚度均勻性有著密切的關(guān)系。因此，對(duì)薄膜厚度均勻性進(jìn)行快速無損檢測(cè)是十分有必要的。 目前薄膜厚度均勻性的檢測(cè)主要以薄膜厚度作為主要的檢測(cè)目標(biāo)，檢測(cè)薄膜厚度的方法主要有渦流、β射線、光學(xué)法和紅外法等。渦流法適用于導(dǎo)電金屬上的非導(dǎo)電層厚度測(cè)量；β射線法則有放射性；光學(xué)法只能測(cè)量透明的薄膜，這些方法都存在一定的局限性。相比以上幾種方法，紅外法具有明顯的優(yōu)勢(shì)，利用紅外熱成像法可以快速、無損檢測(cè)薄膜厚度均勻性，由于所有高于絕對(duì)零度的物體都會(huì)發(fā)出紅外輻射，所以該方法不受薄膜是否導(dǎo)電、是否透明影響。)

應(yīng)用前景

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