成果信息
以該薄膜作為光吸收層，通過優(yōu)化光吸收層與背接觸和緩沖層的界面特性，同時結(jié)合實驗室開發(fā)的直流濺射Mo、化學水浴沉積CdS、射頻濺射沉積本征ZnO和直流濺射沉積鋁摻雜ZnO和柵線蒸鍍等技術(shù)，實現(xiàn)高效率銅鋅錫硫薄膜太陽電池的制作。批量制得的器件光電轉(zhuǎn)換效率均能夠達到8%以上。典型器件的性能如下：開路電壓為650 mV，短路電流密度為 16.13 mA/cm2，填充因子59.0 %，光電轉(zhuǎn)換效率為6.25%。)
背景介紹
銅鋅錫硫以其優(yōu)良的光學、電學性質(zhì)和礦源豐富、環(huán)境友好的特點成為新一代薄膜太陽電池光吸收層材料的有力競爭者。本技術(shù)采用基于溶膠-凝膠的溶液涂覆工藝，突破了制膠、涂覆、空氣退火、低壓硫化等一系列薄膜工藝難點，制備出高質(zhì)量的銅鋅錫硫薄膜。)
應(yīng)用前景
由于該技術(shù)具有方法簡易、成本低廉、成膜質(zhì)量高等優(yōu)點，既避免了肼溶液法環(huán)境危害大、操作困難的缺點，又比真空法（濺射或蒸發(fā)）的成本低，具有良好的應(yīng)用前景。)
主辦單位： 郴州市科學技術(shù)局
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